Получить промокод для бесплатного посещения 22-ой международной выставки лабораторного оборудования и химических реактивов с нашим участием.

Лабораторная мебель
Лабораторное оборудование
Лабораторная посуда
Химические реактивы

Лазерный Cканирующий микроскоп OLYMPUS LEXT OLS4100

Микроскопы Olympus отвечают последним требованиям к точности измерения и расширяется область применения систем визуализации нано-уровня, Новый LEXT OLS4100 устанавливает новые стандарты в 3D лазерной микроскопии.

Лазерный сканирующий микроскоп OLYMPUS LEXT OLS4100
Лазерный сканирующий микроскоп OLYMPUS LEXT OLS4100

Микроскопы Olympus отвечают последним требованиям к точности измерения и расширяется область применения систем визуализации нано-уровня, Новый LEXT OLS4100 устанавливает новые стандарты в 3D лазерной микроскопии.

Преимущества лазерных сканирующих микроскопов:

  • Бесконтактное, неразрушающее, быстрое отображение и измерение.
    Бесконтактное, неразрушающее измерение
    Лазерные сканирующие микроскопы (ЛСМ) применяют маломощное лазерное излучение, которое не имеет механического контакта с образцом. Значит Вы не рискуете повредить Ваш образец, как в случае использования систем для измерения шероховатости контактного типа
    Получение изображения без подготовки образца
    Сканирующий электронный микроскоп (СЭМ) требует качественной пробоподготовки перед наблюдением, такой как ионная бомбардировка или механическая обработка образца для придания образцу нужных размеров и форм, соответствующих рабочей камере. ЛСМ позволяет измерять образцы без какой-либо пробоподготовки образца. Кроме того, изображение можно получить сразу после размещения образца на предметном столике.
  • Высококачественные измерения по осям X-Y
    Точное измерение субмикронных расстояний по осям X-Y
    Так как интерферометр встроен в конструкцию оптического микроскопа, работающего в белом свете, его характеристики зависят от латерального разрешения оптического микроскопа. Используя объектив с более широкой апертурой и меньшую длину волны лазера, ЛСМ имеет более высокое латеральное разрешение. Лазерный фокус можно перемещать по интересующей поверхности с очень высокой точностью при помощи встроенной в микроскоп системы сканирования. На основании полученных изображений ЛСМ может осуществлять субмикронные измерения в плоскости X-Y с очень высоким разрешением на различных типах образцов. Латеральное разрешение микроскопа LEXT OLS4100 достигает 0,12 микрон.
  • Высококачественные измерения в направлении оси Z
    – Точное измерение субмикронных высот в направлении оси Z
    ЭСМ позволяет получить изображения с высоким разрешением, но без информации о высоте. В ЛСМ используется коротковолновый полупроводниковый лазер и конфокальная оптическая система. За счет них микроскоп позволяет получать информацию только на фокусном расстоянии объектива, все остальное фильтруется. В сочетании с высокоточной линейной шкалой эти системы позволяют обрабатывать изображения с высоким разрешением и проводить точные 3D-измерения. Разрешение микроскопа LEXT OLS4100 по оси Z достигает 10 нанометров.

Более широкий диапазон задач:

  • Отображение объектов с углом наклона до 85°
    Благодаря специально разработанным для Lext объективам с высокими значениями численных апертур и специальной оптической системе микроскопа LEXT OLS4100 можно достоверно измерять остроугольные образцы, которые ранее было невозможно измерить. Такая функция позволяет более точно измерять микронеровности на наклонной поверхности
  • Измерения микропрофиля с разрешением по высоте 10 нанометров
    Благодаря коротковолновому лазерному излучению с длиной волны 405 нм и специ- альному объективу с более высокой апертурой доступно разрешение до 0,12 мкм в плоскости XY. Как результат, Lext OLS4100 позволяет проводить субмикронные измере- ния поверхности образца. Используя высокоточную линейную шкалу с разрешением 0,8 нм и функцию построения кривой I-Z (I-Z curve) (см. страницу 23), OLS4100 может различать разницу в высоте порядка 10 нанометров или меньше.
  • Преодоление различий в отражающей способности
    Конструкция Lext OLS4100 отличается наличием двойной конфокальной системы, включающей две пиноли. В комбинации с высокочувствительной CCD-матрицей эта система позволяет получать оптимальную информацию о параметрах поверхности образца, состоящего из материалов с различными отражающими характеристиками.
  • Исследование прозрачных пленок
    Режим распознавания слоев
    Новый режим распознавания слоев микроскопа LEXT OLS4100 анализирует пики интенсивности света, отраженного от множества слоев и устанавливает фокусные точки на поверхность каждого из них. Это позволяет быстро пере- ключаться между поверхностями слоев.
    Исследование и измерение слоев прозрачных пленок
    Режим распознавания слоев упрощает наблюдение и измерение поверхности прозрачного слоя образца. Даже со слоем прозрачной смолы на стеклянной подложке можно измерить форму и неровности каждого слоя, а также толщину пленок

Семь режимов измерения:

  • Измерение высоты ступеньки
  • Измерение шероховатости поверхности
  • Измерение площади/объема
  • Измерение частиц*
  • Геометрические измерения
  • Измерение толщины пленки*
  • Автоматическое распознавание/измерение границ

Технические характеристики:

ОСНОВНОЙ ШТАТИВ

Модуль ЛСМ

Источник/детектор излучения

Источник излучения: полупроводниковый лазер с длиной волны 405 нм, детектор: фотоумножитель

Общее увеличение

108х – 17280х

Масштабирование

Оптическое увеличение: 1x – 8x

Измерение

Измерение на плоскости

Воспроизводимость

100x: 3σn-1 = 0,02 мкм

Точность

Значение измерения ±2°

Измерение высоты

Система

Система вертикального привода револьверной головки

Величина хода

10 мм

Разрешение шкалы

0,8 нм

Разрешение по оси Z

10 нм

Разрешение дисплея

1 нм 

Воспроизводимость

50x: σn-1 = 0,012 мкм 

Точность

0,2+L/100 мкм или менее (L = измеряемая длина)

Секция наблюдения цвета

Источник/детектор излучения

Источник излучения: белый светодиод,
Детектор: 1/1,8-дюймовый однопанельный CCD с разрешением 2 мегапикселя 1/1,8

Масштабирование

Цифровое увеличение 1x – 8x 

Револьверная головка

Моторизованный шестипозиционный револьвер светлопольных объективов

Модуль дифференциального интерференционного контраста 

ДИК – слайдер: U-DICR,
встроенный модуль с поляризующей пластиной

Объектив

План полуапохромат BF-типа 5x, 10x
Специализированный LEXT план полуапохромат 20x, 50x, 100x

Величина хода устройства фокусировки по оси Z

100 мм

XY предметный столик

100 x 100 мм (моторизованный предметный столик),
Опционально: 300 x 300 мм (моторизованный предметный столик)

ОБЪЕКТИВ

Модель

Увеличение

Поле обзора

Рабочее расстояние (РР)

Числовая апертура (ЧА)

MPLFLN5X

108x-864x

2,560-320 мкм

20,0 мм

0,15

MPLFLN10X

216x-1728x

1,280-160 мкм

11,0 мм

0,30

MPLAPON20XLEXT

432x-3456x

640-80 мкм

1,0 мм

0,60

MPLAPON50XLEXT

1080x-8640x

256-32 мкм

0,35 мм

0,95

MPLAPON100XLEXT

2160x-17280x

128-16 мкм

0,35 мм

0,95

Приглашение на выставку "Аналитика Экспо 2024"

    22-Я МЕЖДУНАРОДНАЯ ВЫСТАВКА ЛАБОРАТОРНОГО ОБОРУДОВАНИЯ И ХИМИЧЕСКИХ РЕАКТИВОВ

    Москва, МВЦ «Крокус Экспо», павильон 1, залы 2 и 3, стенд A1063, срок проведения 16-18 апреля

    Если вы заинтересованы в посещении выставки, то заполните форму и получите индивидуальный промокод для бесплатного посещения выставки Аналитика 2024:

    Название организации:*

    Контактное лицо:*

    Телефон:*

    Электронная почта:

    Должность:

    Город:

    Запрос:

    Промокод Аналитика 2024
    Закрыть